[实用新型]一种高频微带基片式环行器有效

专利信息
申请号: 201220636501.5 申请日: 2012-11-28
公开(公告)号: CN203085719U 公开(公告)日: 2013-07-24
发明(设计)人: 刘旷希;唐正龙 申请(专利权)人: 南京广顺电子技术研究所
主分类号: H01P1/387 分类号: H01P1/387
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董建林
地址: 211132 江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开一种高频微带基片式环行器,包括底座、饱和磁矩为5000Gs的尖晶石铁氧体基片、微带电路和永磁体,所述尖晶石铁氧体基片的厚度为0.28-0.32mm,所述微带电路设置在所述尖晶石铁氧体基片上表面,所述永磁体设置在所述微带电路上,所述永磁体的中心与微带电路的圆盘中心保持一致,所述尖晶石铁氧体基片的下表面固定在底座上;本实用新型结构简单、体积小,适用于表面贴装和微电路集成,并且满足较高频率范围的工作要求。
搜索关键词: 一种 高频 微带 基片式 环行器
【主权项】:
一种高频微带基片式环行器,包括底座、铁氧体基片、微带电路和永磁体,所述微带电路设置在所述铁氧体基片上表面,所述永磁体设置在所述微带电路上,所述永磁体的中心与微带电路的圆盘中心保持一致,所述铁氧体基片的下表面固定在底座上,其特征在于,所述铁氧体基片为饱和磁矩等于5000Gs的尖晶石铁氧体基片,其厚度为0.28‑0.32mm。
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