[实用新型]种子注入环形腔电光调Q输出单纵模1053nm系统

摘要

一种种子注入环形腔电光调Q输出单纵模1053nm系统，工作物质固定在聚光腔的内部并且两端穿出聚光腔；种子源单模光纤注入窄线宽种子激光到33.5度全反镜，经33.5度全反镜反射后射入检偏器，经检偏器再次反射后，依次穿过第一电光调Q器件和第二电光调Q器件后射入PZT&30度全反镜组合；经过PZT&30度全反镜组合反射后，依次穿过第一起偏器、工作物质和选模器件射入输出镜；部分光线穿过输出镜输出；另一部分光线经过输出镜反射后，依次穿过第二起偏器、法拉第旋光器和半波片射入30度全反镜；经过30度全反镜反射后穿过检偏器，再次依次穿过第一电光调Q器件和第二电光调Q器件。本实用新型环型腔设计能够避免Nd:YLF晶体在直线腔应用中存在的空间烧孔效应。

主权项

一种种子注入环形腔电光调Q输出单纵模1053nm系统，其特征在于：包括工作物质、聚光腔、第一起偏器、第二起偏器、PZT&30度全反镜组合、选模器件、输出镜、法拉第旋光器、半波片、30度全反镜、反馈光纤、33.5度全反镜、检偏器、种子源单模光纤、第一电光调Q器件和第二电光调Q器件，所述工作物质固定在所述聚光腔的内部并且两端穿出所述聚光腔；所述种子源单模光纤注入窄线宽种子激光到所述33.5度全反镜，经所述33.5度全反镜反射后射入所述检偏器，经所述检偏器再次反射后，依次穿过所述第一电光调Q器件和所述第二电光调Q器件后射入所述PZT&30度全反镜组合；经过所述PZT&30度全反镜组合反射后，依次穿过所述第一起偏器、所述工作物质和所述选模器件射入所述输出镜；部分光线穿过所述输出镜输出；另一部分光线经过所述输出镜反射后，依次穿过所述第二起偏器、所述法拉第旋光器和所述半波片射入所述30度全反镜；经过所述30度全反镜反射后穿过所述检偏器，再次依次穿过所述第一电光调Q器件和所述第二电光调Q器件，组成闭合回路；所述30度全反镜连接到所述反馈光缆。