[实用新型]化学气相沉积设备及其用于该设备的承载机构

摘要

本实用新型公开了一种化学气相沉积设备及其承载机构，该化学气相沉积设备包括腔体、进气装置及承载机构，其中，进气装置及承载机构相对设置并共同限定反应区，承载机构包括若干用于支撑待处理衬底的衬底支撑盘及对应的若干加热器，若干加热器设置在衬底支撑板背离进气装置的一侧并分别对应加热若干衬底支撑盘；承载机构还包括衬板，其开设有与衬底支撑盘数量相对应的开孔，衬底支撑盘对应套设于开孔中；承载机构还包括底座及连接于底座下面的底座转轴，加热器置于通过支撑轴连接于底座上的衬底支撑盘和底座之间。本实用新型通过将大的衬底支撑盘分解为多个小的衬底支撑盘，受热均匀性更优，进而使得衬底受热更均匀，提高了外延芯片的良率。

主权项

一种化学气相沉积设备，包括腔体、进气装置及承载机构，所述进气装置及所述承载机构相对设置并共同限定反应区域，其特征在于，所述承载机构包括若干衬底支撑盘及对应的若干加热器，所述衬底支撑盘用于支撑待处理衬底，所述若干加热器设置在所述衬底支撑板背离所述进气装置的一侧并分别对应加热所述若干衬底支撑盘。