[实用新型]一种垂直工件电化学沉积设备有效
申请号: | 201220675449.4 | 申请日: | 2012-12-10 |
公开(公告)号: | CN202954111U | 公开(公告)日: | 2013-05-29 |
发明(设计)人: | 郭伟民;黄迎春;廖成;李颖鑫;郑兴平;李世楚;梅军;刘焕明 | 申请(专利权)人: | 中物院成都科学技术发展中心 |
主分类号: | C25D5/08 | 分类号: | C25D5/08;C25D17/00 |
代理公司: | 四川力久律师事务所 51221 | 代理人: | 王芸;刘雪莲 |
地址: | 610200 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种垂直工件电化学沉积设备,涉及电化学沉积技术领域。本实用新型垂直工件电化学沉积设备包括电化学沉积槽以及设置于沉积槽内用于药液流动的至少一组管道,所述每组管道包括中心线相互平行的吸管和喷管,所述吸管和喷管上开有孔洞,所述吸管与喷管垂直于水平面。本实用新型垂直工件电化学沉积设备中使用吸管吸取电化学沉积槽内的药液,配合喷管喷出补进电化学沉积槽内的药液来带动药液在工件表面的流动,使电化学沉积槽内的药液在工件表面具有均匀的药液流动速度,从而增加电化学沉积镀层的均匀性;并且垂直于水平面的吸管与喷管更利于竖直工件的电化学沉积。 | ||
搜索关键词: | 一种 垂直 工件 电化学 沉积 设备 | ||
【主权项】:
一种垂直工件电化学沉积设备,包括电化学沉积槽以及设置于沉积槽内用于药液流动的至少一组管道,其特征在于,所述每组管道包括中心线相互平行的吸管和喷管,所述吸管和喷管上开有孔洞。
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