[实用新型]微波激发CVD镀膜设备

摘要

本实用新型提供了一种微波激发CVD镀膜设备，包括壳体及具有微波发射喇叭的微波发生器，该壳体具有密封的CVD腔体，CVD腔体内安装有用于喷出工作气体的喷气装置，待镀膜材料位于喷气装置的喷嘴上方且其需镀膜的一面与之相对；微波发生器的本体安装于CVD腔体外，其微波发射喇叭设于CVD腔体内；CVD腔体内横设有用于屏蔽微波的金属网，该金属网位于喷气装置与待镀膜材料之间。喷气装置包括具有喷嘴的喷气架以及引入工作气体的输气管，喷气架设有引入工作气体的进气口，输气管接驳于进气口上。喷气架开设有至少两个进气口，喷气架内设有用于混合气体的混气腔。本实用新型镀膜效率高、不易损坏待镀膜材料，且所镀出的膜厚均匀、镀膜表面光滑。

主权项

一种微波激发CVD镀膜设备，包括壳体，其特征在于：还包括具有微波发射喇叭的微波发生器，所述壳体具有密封的CVD腔体，所述CVD腔体内安装有用于喷出工作气体的喷气装置，待镀膜材料位于所述喷气装置的喷嘴上方且其需镀膜的一面与之相对；所述微波发生器的本体安装于所述CVD腔体外，其微波发射喇叭设于所述CVD腔体内；所述CVD腔体内横设有用于屏蔽微波的金属网，该金属网位于所述喷气装置与所述待镀膜材料之间。