[实用新型]等离子体处理腔室及电极有效
申请号: | 201220726922.7 | 申请日: | 2012-12-25 |
公开(公告)号: | CN203038891U | 公开(公告)日: | 2013-07-03 |
发明(设计)人: | 陈金元;崔强;高颖;尹志尧;杜志游 | 申请(专利权)人: | 中微半导体设备(上海)有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 张龙哺;吕俊清 |
地址: | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种等离子体处理腔室及电极,该电极用于向等离子体处理腔室施加射频电场,其包括:第一连接部,第一连接部连接第一射频电源;第二连接部,第二连接部连接第二射频电源,第二射频电源与第一射频电源的信号频率相同;以及多个枝部,枝部均匀分布于第一连接部和第二连接部之间,其一端连接第一连接部,另一端连接第二连接部;其中,第一连接部、第二连接部与枝部呈片状。其使处理腔室中射频电场均匀分布,进而使等离子体均匀分布,从而衬底各区域与等离子体的反应程度接近,有利于提升产品良率;且结构简单、实施便利。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 处理 电极 | ||
【主权项】:
一种用于等离子体处理腔室的电极,用于向所述等离子体处理腔室施加射频电场,其特征在于,其包括:第一连接部,所述第一连接部连接第一射频电源;第二连接部,所述第二连接部连接第二射频电源,所述第二射频电源与所述第一射频电源的信号频率相同;以及多个枝部,所述枝部均匀分布于所述第一连接部和所述第二连接部之间,其一端连接所述第一连接部,另一端连接所述第二连接部;其中,所述第一连接部、第二连接部与所述枝部呈片状。
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