[实用新型]密封沟结构有效
| 申请号： | 201220736698.X | 申请日： | 2012-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN203200740U | 公开（公告）日： | 2013-09-18 |
| 发明（设计）人： | 冒刘淳;庄志华;姚必传;叶平;陶金 | 申请（专利权）人： | 上海建工七建集团有限公司 |
| 主分类号： | E02D3/10 | 分类号： | E02D3/10 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 200050 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种密封沟结构，包括带沟槽的地基、真空膜层以及粘土层，所述沟槽的底部下方设有密封墙，所述沟槽的底部沿沟槽的纵向开设一凹槽，所述真空膜层覆盖于所述沟槽及凹槽上面，所述粘土层覆盖于所述真空膜层上面。本实用新型提供的密封沟结构，通过在沟槽的底部沿沟槽的纵向开设凹槽，可以增加真空膜层的长度，并且，当所述真空膜层覆盖于所述沟槽及凹槽上面时，有一部分真空膜层嵌设于所述密封墙中，从而，使得起密封作用的真空膜层能与密封墙联成一整体，确保真空膜层周边的密封，隔断密封结构两侧区域的水汽联系，保证位于密封沟结构一侧的预压地块的密封性，在预压地块在预压过程中减小位于密封沟结构另一侧的区域的土体变形。 | ||
| 搜索关键词： | 密封 结构 | ||
【主权项】：
一种密封沟结构，包括带沟槽的地基、真空膜层以及粘土层，所述沟槽的底部下方设有密封墙，其特征在于，所述沟槽的底部沿沟槽的纵向开设一凹槽，所述真空膜层覆盖于所述沟槽及凹槽上，所述粘土层覆盖于所述真空膜层上。
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