[实用新型]化学气相沉积设备的控制系统有效

专利信息
申请号: 201220746563.1 申请日: 2012-12-31
公开(公告)号: CN203007418U 公开(公告)日: 2013-06-19
发明(设计)人: 张义明;陈力兵;祝龙飞;房伟 申请(专利权)人: 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司
主分类号: C23C16/52 分类号: C23C16/52
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 杨林;马翠平
地址: 314300 浙江省海盐*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开一种化学气相沉积设备的控制系统,用于控制化学气相沉积设备进行沉积工艺,所述控制系统包括可编程控制器处理模块及若干个可编程控制器控制模块,所述若干个可编程控制器控制模块和所述可编程控制器处理模块通过多段网络连接线串联连接形成环形网络,使得每个所述可编程控制器控制模块通过双向的网络线路与所述可编程控制器处理模块进行通讯联系。根据本实用新型的控制系统,即使任意一个可编程控制器控制模块一端的网络连接线发生故障使得该可编程控制器控制模块与可编程控制器处理模块失去通讯联系,也可通过该可编程控制器控制模块另一端的网络连接线与可编程控制器处理模块进行通讯联系,提高了整个化学气相沉积设备的控制系统的可靠性。
搜索关键词: 化学 沉积 设备 控制系统
【主权项】:
一种化学气相沉积设备的控制系统,用于控制化学气相沉积设备进行沉积工艺,所述控制系统包括可编程控制器处理模块及若干个可编程控制器控制模块,其特征在于,所述若干个可编程控制器控制模块和所述可编程控制器处理模块通过多段网络连接线串联连接形成环形网络,使得每个所述可编程控制器控制模块通过双向的网络线路与所述可编程控制器处理模块进行通讯联系。
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