[发明专利]磁共振成像装置有效
申请号: | 201280000441.0 | 申请日: | 2012-01-13 |
公开(公告)号: | CN102711604A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 胜沼步;山下正干;高森博光;渡边广太;浅井宽人 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝医疗系统株式会社 |
主分类号: | A61B5/055 | 分类号: | A61B5/055;G01R33/385;G01R33/3873 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 高科 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 实施方式的磁共振成像装置(100)具备:静磁场磁铁(1)、倾斜磁场线圈(2)、径管(10)、密闭空间形成部(11、12、111、112、30、31)。静磁场磁铁(1)形成为大致圆筒状,在圆筒内的空间发生静磁场。倾斜磁场线圈(2)形成为大致圆筒状,被配置在上述静磁场磁铁(1)的圆筒内并对上述静磁场附加倾斜磁场。径管(10)形成为大致圆筒状,配置在上述倾斜磁场线圈(2)的圆筒内。密闭空间形成部(11、12、111、112、30、31)在上述静磁场磁铁(1)的内周侧与上述径管(10)的外周侧之间形成包围上述倾斜磁场线圈(2)的密闭空间。并且,上述倾斜磁场线圈(2)的至少一个侧端的至少一部分不与上述密闭空间相接触。 | ||
搜索关键词: | 磁共振 成像 装置 | ||
【主权项】:
一种磁共振成像装置,具备:静磁场磁铁,形成为大致圆筒状,在圆筒内的空间发生静磁场;倾斜磁场线圈,形成为大致圆筒状,配置在上述静磁场磁铁的圆筒内并对上述静磁场附加倾斜磁场;径管,形成为大致圆筒状,配置在上述倾斜磁场线圈的圆筒内;以及密闭空间形成部,在上述静磁场磁铁的内周侧与上述径管的外周侧之间形成包围上述倾斜磁场线圈的密闭空间,其中,上述倾斜磁场线圈的至少一个侧端的至少一部分不与上述密闭空间相接触。
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