[发明专利]光学波长分光装置及其制造方法在审
| 申请号： | 201280001298.7 | 申请日： | 2012-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN103782208A | 公开（公告）日： | 2014-05-07 |
| 发明（设计）人： | 柯正浩 | 申请（专利权）人： | 柯正浩 |
| 主分类号： | G02B6/12 | 分类号： | G02B6/12;G02B6/13 |
| 代理公司： | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人： | 胡坚 |
| 地址： | 中国台湾新*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明揭露一种光学波长分光装置，主要由一第一基板、一输入单元、一光栅、一第一光学反射单元以及一第二基板所组成。该输入单元形成于该第一基板上，并具有一狭缝以接收一光学讯号；该光栅形成于该第一基板上，可根据该光学讯号产生一输出之第一光束。该第一光学反射单元形成于该第一基板上，用以反射来自于该光栅的该第一光束。该第二基板则覆盖于该输入单元与该光栅上。其中，该输入单元、该光栅以及该第一光反射单元系利用高能量光源对一光阻层进行曝光所形成。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 波长 分光 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学波长分光装置，包含：一第一基板；一输入单元，系形成于该第一基板上，并具有一狭缝，以接收一光学讯号；一光栅，系形成于该第一基板上，可根据该光学讯号产生输出之一第一光束；一第一光学反射单元，系形成于该第一基板上，以反射输出来自于该光栅之该第一光束；以及一第二基板，系覆盖于该输入单元与该光栅上；其中，该输入单元、该光栅与该第一光学反射单元系利用一高能量光源对一光阻层进行曝光所形成，且该高能量光源的波长范围介于系0.01奈米至100奈米之间。
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