[发明专利]平面显示器用玻璃基板及其制造方法

摘要

本发明提供一种p-Si·TFT平面显示器用玻璃基板及其制造方法，该p-Si·TFT平面显示器用玻璃基板由低黏特性温度较高且可在避免利用直接通电加热的熔解中产生熔解槽熔损的问题下进行制造的玻璃形成。本发明的玻璃基板含有SiO252～78质量%、Al2O33～25质量%、B2O33～15质量%、RO(其中，RO为MgO、CaO、SrO及BaO的总量)3～20质量%、R2O(其中，R2O为Li2O、Na2O及K2O的总量)0.01～0.8质量%、Sb2O3 0～0.3质量%，实质上不含有As2O3，质量比CaO/RO为0.65以上，质量比(SiO2+Al2O3)/B2O3为7～30的范围，且质量比(SiO2+Al2O3)/RO为5以上。本发明的玻璃基板的制造方法包括：熔解步骤，至少使用直接通电加热将以成为上述玻璃组成的方式调配的玻璃原料熔融而获得熔融玻璃；成形步骤，使上述熔融玻璃成形为平板状玻璃；及缓冷步骤，对上述平板状玻璃进行缓冷。

主权项

一种p‑Si·TFT平面显示器用玻璃基板，其由如下的玻璃形成，该玻璃含有：SiO2 52～78质量%、Al2O3 3～25质量%、B2O3 3～15质量%、RO 3～20质量%、R2O 0.01～0.8质量%、Sb2O3 0～0.3质量%，并且该玻璃实质上不含有As2O3，质量比CaO/RO为0.65以上，质量比(SiO2+Al2O3)/B2O3为7～30的范围，且质量比(SiO2+Al2O3)/RO为5以上，其中，RO为MgO、CaO、SrO及BaO的总量，R2O为Li2O、Na2O及K2O的总量。