[发明专利]涂敷装置以及涂敷方法有效
申请号: | 201280004422.5 | 申请日: | 2012-02-14 |
公开(公告)号: | CN103298566A | 公开(公告)日: | 2013-09-11 |
发明(设计)人: | 近藤弘康;秋元俊之;酒井和美 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝高新材料公司 |
主分类号: | B05C13/02 | 分类号: | B05C13/02;B05C7/04;B05C11/08;B05D7/22;B65D25/14 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 夏斌;陈萍 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及涂敷装置以及涂敷方法。该涂敷装置向立体的涂敷对象物的内面有效地涂敷涂液。涂敷装置(1)具有保持机构(3)、自转机构(4)以及公转机构(5)。保持机构(3)保持涂敷对象物(2)。自转机构(4)使涂敷对象物(2)以通过涂敷对象物(2)内部的第1旋转轴(R1)为中心旋转。公转机构(5)使涂敷对象物(2)以与第1旋转轴(R1)交叉的第2旋转轴(R2)为中心旋转。 | ||
搜索关键词: | 装置 以及 方法 | ||
【主权项】:
一种涂敷装置,向内部具有空间部的涂敷对象物的内面涂敷涂液,其特征在于,具有:保持机构,保持上述涂敷对象物;第1机构,使上述涂敷对象物以通过上述涂敷对象物内部的第1旋转轴为中心旋转;以及第2机构,使上述涂敷对象物以与上述第1旋转轴交叉的第2旋转轴为中心旋转。
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