[发明专利]光学测量系统、光学测量装置、校正用构件以及校正方法有效

专利信息
申请号: 201280005526.8 申请日: 2012-04-18
公开(公告)号: CN103328953A 公开(公告)日: 2013-09-25
发明(设计)人: 上村健二;菅武志 申请(专利权)人: 奥林巴斯医疗株式会社
主分类号: G01N21/27 分类号: G01N21/27
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明所涉及的光学测量系统具备:探头(3),其具有多个受光光纤和照射光纤;校正用构件(4),其具有框架构件和荧光体,在荧光体表面与探头(3)的前端(33)相向的状态下使用,其中,该荧光体设置于框架构件的内部,通过属于与散射光测量波长带不同的波长带的波长的激励光来发出荧光;荧光激励用光源(22b),其将激励光提供给照射光纤;测量部(24),其对多个受光光纤的各输出光进行测量;以及校正处理部(27b),其根据测量部(24)对来自多个受光光纤(34)的输出光进行测量的测量结果,来对多个受光光纤间的受光强度进行校正,其中,该输出光是针对由于激励光的照射而从荧光体产生荧光的输入光。
搜索关键词: 光学 测量 系统 装置 校正 构件 以及 方法
【主权项】:
一种光学测量系统,利用将从前端入射的光分别从基端输出的多个受光光纤来进行散射光测量,该光学测量系统的特征在于,具备:探头,其具有上述多个受光光纤以及将从基端提供的光从前端照射出的照射光纤;校正用构件,其具有框架构件和荧光体,在上述荧光体表面与上述探头的前端相对的状态下使用该校正用构件,其中,该荧光体设置于上述框架构件的内部,通过波长属于与散射光测量波长带不同的波长带的激励光来发出荧光;激励用光源,其将波长属于与上述散射光测量波长带不同的波长带的激励光提供给上述照射光纤;测量部,其对上述多个受光光纤的各输出光进行测量;以及校正处理部,其根据上述测量部对来自上述多个受光光纤的输出光的测量结果,来对上述多个受光光纤之间的受光强度的关系进行校正,其中,该输出光是针对由于上述激励光的照射而从上述荧光体产生的荧光的输出光。
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