[发明专利]具有带有凸台的喷射室的流体喷射装置无效
| 申请号： | 201280007172.0 | 申请日： | 2012-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN103347703A | 公开（公告）日： | 2013-10-09 |
| 发明（设计）人： | L.H.怀特;P.马迪洛维奇;E.D.托尔尼艾宁;J.A.费恩;T.R.斯特兰;T.S.克鲁斯-乌里贝 | 申请（专利权）人： | 惠普发展公司;有限责任合伙企业 |
| 主分类号： | B41J2/175 | 分类号： | B41J2/175;B41J2/045;B41J2/14 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 冯春时;谭祐祥 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种流体喷射装置，其包括喷射室，该喷射室具有与室底板相对的喷射孔口、加热元件和从室底板凸出的凸台，凸台与加热元件隔开，在凸台和加热元件之间限定无源区域。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 带有 喷射 流体 装置 | ||
【主权项】：
一种流体喷射装置，包括：喷射室，具有与室底板相对的喷射孔口；在所述喷射室内的加热元件，所述加热元件加热所述喷射室内的流体，以便将流体喷射通过所述喷射孔口；以及从所述室底板凸出以便引导流体从所述喷射室喷射的凸台，其中，所述凸台与所述加热元件隔开，在所述凸台和加热元件之间限定无源区域，以便在流体喷射时接收和抑制冲击在所述室底板上的力。
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