[发明专利]透明氧化物膜及其制造方法有效
| 申请号： | 201280007565.1 | 申请日： | 2012-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN103380229A | 公开（公告）日： | 2013-10-30 |
| 发明（设计）人： | 山口刚;张守斌;近藤佑一 | 申请（专利权）人： | 三菱综合材料株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C04B35/16;C04B35/453;H01L31/04 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 康泉;王珍仙 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种具有折射率低且良好阻气性的氧化锌系透明氧化物膜及其制造方法。本发明的透明氧化物膜具有如下成分组成，即相对于总金属成分量含有0.9～20.0at%的Al及25.5～68.0at%的Si，且剩余部分由Zn及不可避免的杂质构成，并且为非晶质。该制造方法如下：在含氧的惰性气体气氛中及加热基板的状态的至少一种环境下，利用溅射靶进行DC溅射，其中，该溅射靶由氧化物烧结体构成，并且该烧结体组织中存在复合氧化物Zn2SiO4和ZnO，该氧化物烧结体具有如下成分组成：相对于总金属成分量含有0.3～4.0wt%的Al及6.0～14.5wt%的Si，且剩余部分由Zn及不可避免的杂质构成。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 氧化物 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种透明氧化物膜，其特征在于，该透明氧化物膜具有相对于总金属成分量含有0.9～20.0at%的Al及25.5～68.0at%的Si、且剩余部分由Zn及不可避免的杂质构成的成分组成，并且为非晶质。
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