[发明专利]薄膜器件的材料图案化工艺无效

专利信息
申请号: 201280008219.5 申请日: 2012-02-24
公开(公告)号: CN103348503A 公开(公告)日: 2013-10-09
发明(设计)人: 约翰·德弗兰科;迈克·米勒;福克斯·霍尔特 申请(专利权)人: 正交公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 康建峰;李春晖
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种形成器件的方法包括提供一个基板;在基板上沉积单个的氟化可光图案化层;在基板上形成第一、第二有源层;应用可光图案化层以便在第一有源层以内形成第一图案,在第二有源层以内形成第二个不同的图案。可以利用本发明公开的具体例子形成薄膜电子器件,包括减少光刻步骤的OLED器件和TFT。
搜索关键词: 薄膜 器件 材料 图案 化工
【主权项】:
一种形成器件的方法,包括:a.提供一个基板;b.在基板上沉积单个的氟化可光图案化层;c.在基板上形成第一和第二有源层;d.应用可光图案化层以在第一有源层以内形成第一图案,在第二有源层以内形成第二个不同的图案。
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