[发明专利]电子照相光电导体及其制备方法,以及电子照相装置有效

专利信息
申请号: 201280008707.6 申请日: 2012-02-14
公开(公告)号: CN103384851A 公开(公告)日: 2013-11-06
发明(设计)人: 根桥和希;铃木信二郎;北川清三 申请(专利权)人: 富士电机株式会社
主分类号: G03G5/06 分类号: G03G5/06;G03G5/00;G03G5/05;G03G5/14
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 项丹
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了具有高耐转印性、优异的存储性质和电性质的电子照相光电导体。还提供了用于生产所述电子照相光电导体的方法和电子照相装置。所述电子照相光电导体在导电基底(1)上依次设置有下涂层(2)和光电导层(3)。所述光电导层(3)含有至少一种酞菁化合物作为电荷产生材料,并含有由通式(1)的重复单元构成的聚乙烯醇缩醛树脂作为树脂粘合剂。(在式(1)中,R表示氢原子、甲基、乙基或丙基;x、y和z分别代表各个结构单元的摩尔%并且x+y+z=100;n表示1-5的整数;缩醛化程度(x+z)为76-99摩尔%;结构单元的摩尔比(x∶z)是95∶5至50∶50)。
搜索关键词: 电子 照相 光电 导体 及其 制备 方法 以及 装置
【主权项】:
1.一种电子照相光电导体,其在导电性基材上依次设置有下涂层和光电导层,其中,所述光电导层含有至少一种酞菁化合物作为电荷产生材料,并含有由以下式(1)表示的重复单元构成的聚乙烯醇缩醛树脂作为树脂粘合剂:在式(1)中,R是氢原子、甲基、乙基或丙基;x、y和z代表各个结构单元的摩尔%,其中,x+y+z=100;n是1-5的整数;缩醛化程度(x+z)为76-99摩尔%;结构单元的摩尔比(x:z)是95:5至50:50。
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