[发明专利]研磨垫无效
| 申请号： | 201280008992.1 | 申请日： | 2012-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN103347652A | 公开（公告）日： | 2013-10-09 |
| 发明（设计）人： | 竹内奈奈;福田诚司;奥田良治;笠井重孝 | 申请（专利权）人： | 东丽株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;B24B37/22;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 朱美红;杨楷 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种至少具有研磨层和垫层的研磨垫，在其研磨面上具有槽；研磨面和上述槽的与研磨面连续的侧面所成的角度的至少一方为105度以上、150度以下，上述垫层的应变常数为7.3×10－6μm/Pa以上、4.4×10－4μm/Pa以下；通过使用这样的研磨垫，能够解决在保持较高的研磨速率的同时抑制研磨速率的变动的课题。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 | ||
【主权项】：
一种研磨垫，至少具有研磨层和垫层，其特征在于，在其研磨面上具有槽；研磨面和上述槽的与研磨面连续的侧面所成的角度的至少一方为105度以上、150度以下，上述垫层的应变常数为7.3×10－6μm/Pa以上、4.4×10－4μm/Pa以下。
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