[发明专利]熔融金属镀浴用旋转体及其制造方法有效
申请号: | 201280009088.2 | 申请日: | 2012-03-12 |
公开(公告)号: | CN103547697A | 公开(公告)日: | 2014-01-29 |
发明(设计)人: | 古贺慎一;松田泰三;小川卫介;佐佐木淳 | 申请(专利权)人: | 日立金属株式会社;日新制钢株式会社 |
主分类号: | C23C2/40 | 分类号: | C23C2/40 |
代理公司: | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 | 代理人: | 齐永红 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于提供一种相对以往有所改进的旋转体及其制造方法,该熔融金属镀浴用旋转体,具有至少外周面是由陶瓷构成、外观大致为圆柱形的主体部,所述熔融金属镀浴用旋转体,其特征在于:在所述主体部的外周面上,在与旋转轴心相交叉的方向上形成有槽,在所述槽的底表面上,沿该槽的长边方向形成有多列微槽。也可不形成沿所述长边方向的微槽而形成宽度方向的多列微槽。 | ||
搜索关键词: | 熔融 金属 镀浴用 旋转体 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种熔融金属镀浴用旋转体,具有至少外周面是由陶瓷构成、外观大致为圆柱形的主体部,所述熔融金属镀浴用旋转体,其特征在于:在所述主体部的外周面上,在与旋转轴心相交叉的方向上形成有槽,在所述槽的底表面上,沿该槽的长边方向形成有多列微槽。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C2-00 用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺;其所用的设备
C23C2-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域上镀覆
C23C2-04 .以覆层材料为特征的
C23C2-14 .过量熔融覆层的除去;覆层厚度的控制或调节
C23C2-26 .后处理
C23C2-30 .熔剂或融态槽液上的覆盖物
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C2-00 用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺;其所用的设备
C23C2-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域上镀覆
C23C2-04 .以覆层材料为特征的
C23C2-14 .过量熔融覆层的除去;覆层厚度的控制或调节
C23C2-26 .后处理
C23C2-30 .熔剂或融态槽液上的覆盖物