[发明专利]用于反射镜组件的阻挡材料无效
| 申请号： | 201280009124.5 | 申请日： | 2012-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN103429968A | 公开（公告）日： | 2013-12-04 |
| 发明（设计）人： | S·穆霍帕迪亚伊;D·瓦拉普拉萨德;D·奈尔瓦杰克;A·V·克卡 | 申请（专利权）人： | 霍尼韦尔国际公司 |
| 主分类号： | F24J2/10 | 分类号： | F24J2/10;H01L31/052;G02B5/12;B32B15/04 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 赵苏林;杨思捷 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在此提供了一种包含含氟聚合物阻挡层的反射光学结构,其中该含氟聚合物选自至少一种四氟丙烯或五氟丙烯,优选2,3,3,3-四氟丙烯,的均聚物和共聚物。还公开了一种形成反射光学结构的方法,包括(a)施加阻挡层,该阻挡层包含一种或多种选自至少一种四氟丙烯或五氟丙烯的均聚物和共聚物的含氟聚合物；以及(b)固化。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 反射 组件 阻挡 材料 | ||
【主权项】：
1.一种反射光学结构,包括：(a)光学透明基体,其包括位于所述基体背面的反射层；和(b)阻挡层,其位于所述反射层的至少一个表面的一部分上,所述阻挡层包含含氟聚合物,所述含氟聚合物包含至少一种由式(I)表示的聚合物或聚合物链段：![]()
其中n从约10至约2500,R1、R2和R3独立地选自H和F,且所述聚合物具有从约2000至约200000道尔顿的分子量。
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