[发明专利]包括前室和可调整擦除构造的流体储器组件有效
| 申请号： | 201280009896.9 | 申请日： | 2012-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN103533860B | 公开（公告）日： | 2017-07-11 |
| 发明（设计）人： | F·戈尔茨坦;小R·M·巴托 | 申请（专利权）人： | 1号集团有限公司 |
| 主分类号： | A45D34/00 | 分类号： | A45D34/00;A45D34/04;B65D53/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人： | 蒋旭荣 |
| 地址： | 英国拉姆*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种瓶组件具有用来存储流体的瓶子，如存储化妆流体。用来涂抹流体的涂抹器构造成，从瓶子沿路径是可插入的和可移除的。可以包括一个或多个密封件的密封体或组件构造成，当移除帽盖时继续密封瓶子。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 可调整 擦除 构造 流体 组件 | ||
【主权项】：
一种流体储器组件，包括：包括储器的外壳，该储器存储化妆流体；涂抹器组件，该涂抹器组件沿路径能插入到储器中，该涂抹器组件包括杆和用以携带化妆流体的涂抹器；以及密封件，该密封件当处于中间位置中时封闭储器，该密封件包括至少一个翼片，所述翼片能够借助于涂抹器组件挠曲，以便形成穿过密封件的开口，所述密封件构造成当涂抹器组件不与密封件接合时返回到中间位置，其中，密封件是包括在外壳内的上部密封件和下部密封件之一，其中在上部密封件和下部密封件之间限定有前室，并且其中，上部密封件和下部密封件之间的距离大于涂抹器的轴向长度。
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