[发明专利]半导体基板、半导体装置以及半导体基板的制造方法有效
申请号: | 201280009953.3 | 申请日: | 2012-03-05 |
公开(公告)号: | CN103403883A | 公开(公告)日: | 2013-11-20 |
发明(设计)人: | 高田朋幸;山中贞则;岛田雅夫;秦雅彦;板谷太郎;石井裕之;久米英司 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社;独立行政法人产业技术综合研究所 |
主分类号: | H01L31/10 | 分类号: | H01L31/10;H01L27/146 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供一种半导体基板,该半导体基板具有:基底基板,其表面的全部或一部分是硅结晶面;抑制体,其位于基底基板之上,具有到达硅结晶面的开口,抑制结晶的生长;第一结晶层,其位于从开口露出的硅结晶面之上,由SixGe1-x(0≤x<1)构成;第二结晶层,其位于第一结晶层之上,由禁带宽度比第一结晶层大的III-V族化合物半导体构成;以及一对金属层,其位于抑制体以及第二结晶层之上,一对金属层中的每一个金属层与第一结晶层以及第二结晶层分别接触。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体基板,该半导体基板具有:基底基板,其表面的全部或一部分是硅结晶面;抑制体,其位于上述基底基板之上,具有到达上述硅结晶面的开口,抑制结晶的生长;第一结晶层,其位于从上述开口露出的上述硅结晶面之上,由SixGe1‑x构成,其中,0≤x<1;第二结晶层,其位于上述第一结晶层之上,由禁带宽度比上述第一结晶层大的III‑V族化合物半导体构成;以及一对金属层,其位于上述抑制体以及上述第二结晶层之上,上述一对金属层中的每一个金属层与上述第一结晶层以及上述第二结晶层分别接触。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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