[发明专利]双负载闸配置的消除及剥离处理腔室

摘要

本发明的实施例提供能处理基板的双负载闸室。在一实施例中，双负载闸室包括腔室主体，腔室主体界定互相隔离的第一腔室容积和第二腔室容积。下腔室容积和第二腔室容积中的每一个，经由配置以传送基板的两个开口，能选择性连接至两个处理环境。双负载闸室还包括设在第二腔室容积内的加热基板支撑组件。加热基板支撑组件经配置以支撑及加热放置于上的基板。双负载闸室还包括连接至第二腔室容积的远端等离子体源，用以供应等离子体给第二腔室容积。

主权项

一种负载闸室，包含：腔室主体，所述腔室主体界定互相隔离的第一腔室容积和第二腔室容积，其中所述第一腔室容积经由配置以传送基板的两个开口能选择性连接至两个处理环境，所述第二腔室容积选择性连接至所述两个处理环境的至少一者；加热基板支撑组件，所述加热基板支撑组件设在所述第二腔室容积内，其中所述加热基板支撑组件经配置以支撑及加热放置于上的基板；以及远端等离子体源，所述远端等离子体源连接至所述第二腔室容积，用以供应等离子体给所述第二腔室容积。