[发明专利]图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组成物及抗蚀剂膜有效
| 申请号： | 201280010692.7 | 申请日： | 2012-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN103562795A | 公开（公告）日： | 2014-02-05 |
| 发明（设计）人： | 高桥秀知;山口修平;片冈祥平;白川三千纮;吉野文博;齐藤翔一 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/32 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种图案形成方法，其含有(i)藉由感光化射线性或感放射线性树脂组成物形成膜的步骤，所述树脂组成物含有(P)具有(a)由特定式表示的重复单元的树脂，以及(B)能够在用光化射线或放射线照射后产生有机酸的化合物；(ii)使膜曝光的步骤，以及(iii)藉由使用含有机溶剂的显影剂使膜显影以形成负型图案的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 感光 射线 放射 线性 树脂 组成 抗蚀剂膜 | ||
【主权项】：
1.一种图案形成方法，包括：(i)藉由感光化射线性或感放射线性树脂组成物形成膜的步骤，所述感光化射线性或感放射线性树脂组成物含有(P)具有(a)由下式(I)表示的重复单元的树脂，以及(B)能够在用光化射线或放射线照射后产生有机酸的化合物，(ii)使所述膜曝光的步骤，以及(iii)藉由使用含有机溶剂的显影剂使所述膜显影以形成负型图案的步骤：![]()
其中R0表示氢原子或甲基，且R1、R2及R3各独立地表示直链或分支链烷基。
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