[发明专利]溅射靶、其制造方法和薄膜晶体管的制造方法有效
| 申请号： | 201280010763.3 | 申请日： | 2012-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN103403216A | 公开（公告）日： | 2013-11-20 |
| 发明（设计）人： | 楠见崇嗣;神崎庸辅 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;H01L21/203;H01L21/363 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供能够得到特性良好的膜的溅射靶。溅射靶(100)包括：包含IGZO的多个靶材(10)；包含Cu等的背板(20)；和包含In等的结合件(30)。多个靶材(10)和背板(20)通过结合件(30)接合。在各靶材(10)的表面设置有长度(L2)、宽度(W3)、深度(D1)的槽(40)。该槽(40)与相互相邻的靶材(10)彼此间的接缝(15)平行地设置在接缝(15)的附近(与接缝(15)相距距离(W2)的位置)。槽(40)的宽度(W3)和从接缝(15)到槽(40)的距离(W2)与靶材(10)的上下边的长度(L1)相比足够小。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 制造 方法 薄膜晶体管 | ||
【主权项】：
一种溅射靶，其特征在于，包括：彼此包含相同的材料的多个靶材；支承所述多个靶材的支承件；和将所述多个靶材和所述支承件接合的结合件，在相互相邻的靶材中的至少一个靶材的表面设置有将该表面分割为2个以上的区域的槽。
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