[发明专利]干式剥离硼-碳膜的方法

摘要

本发明的实施例大致涉及干式剥离硼-碳膜的方法。在一个实施例中，利用氢与氧的交替等离子体来移除硼-碳膜。在另一实施例中，利用共同流动的氧与氢等离子体来移除含硼-碳的膜。除了上述氧等离子体的任一个以外可利用一氧化二氮等离子体，或者可利用一氧化二氮等离子体来取代上述氧等离子体的任一个。在另一实施例中，利用自水蒸气产生的等离子体来移除硼-碳膜。硼-碳移除工艺还可包括在硼-碳膜的移除之前的视情况的聚合物移除工艺。聚合物移除工艺包括将硼-碳膜暴露至NF3，以自硼-碳膜的表面移除在基板蚀刻工艺期间产生的任何碳基聚合物。

主权项

一种用于自基板剥离膜的方法，所述方法包括：将基板置于腔室中，所述基板上具有膜，所述膜包括硼与碳的原子比在约1：1和约3：1之间的硼与碳；将所述膜暴露至数个氧离子或自由基以及数个氢离子或自由基，以自所述硼与碳产生一种或多种挥发性化合物；以及自所述腔室排出所述一种或多种挥发性化合物。