[发明专利]用于UV处理、化学处理及沉积的设备与方法

摘要

本发明的实施例提供用于在相同腔室中执行UV处理与化学处理和/或沉积的设备与方法。本发明的一个实施例提供一种处理腔室，所述处理腔室包括：可透过UV光的气体分配喷头，所述可透过UV光的气体分配喷头设置在基板支撑件上方，所述基板支撑件位于所述处理腔室的内部空间中；可透过UV光的窗口，所述可透过UV光的窗口设置在所述可透过UV光的气体分配喷头上方；及UV单元，所述UV单元设置在所述内部空间外面。所述UV单元配置为将UV光朝向所述基板支撑件而引导通过所述可透过UV光的窗口与所述可透过UV光的气体分配喷头。

主权项

一种处理腔室，包含：腔室主体，所述腔室主体界定内部空间；基板支撑件，所述基板支撑件设置在所述内部空间中；可透过UV光的气体分配喷头，所述可透过UV光的气体分配喷头设置在所述基板支撑件上方；可透过UV光的窗口，所述可透过UV光的窗口设置在所述可透过UV光的气体分配喷头上方，其中在所述可透过UV光的气体分配喷头与所述可透过UV光的窗口之间形成气体空间，并且所述气体空间与所述内部空间透过所述可透过UV光的气体分配喷头而流体连通；及UV单元，所述UV单元设置在所述可透过UV光的窗口外面，其中所述UV单元配置为将UV光朝向所述基板支撑件而引导通过所述可透过UV光的窗口与所述可透过UV光的气体分配喷头。