[发明专利]电化学沉积和补给设备

摘要

一种工艺电解质补给模块，其适于在具有第一阳极和第一阴极的基底电化学沉积设备中补给工艺电解质中的离子，所述工艺电解质补给模块具有第二阳极。所述工艺电解质补给模块具有从化学沉积设备偏置的框。工艺电解质再循环隔室设置在所构造的框中，其配置为使得工艺电解质在补给模块与沉积设备之间再循环。

主权项

一种适于将金属沉积到基底的表面上的电化学沉积设备，所述电化学沉积设备包括：构造为用于保持工艺电解质的框；与所述框可拆卸地耦接的基底保持器，所述基底保持器将所述基底支撑在所述工艺电解质中；以及阳极流体隔室，其可拆卸地耦接至所述框并且限定流体边界壳，所述流体边界壳将阳极电解液容纳在所述框中并且将所述阳极电解液与所述工艺电解质分隔开，在所述边界壳中具有朝向所述基底的所述表面的阳极和设置在所述阳极与所述基底的所述表面之间的离子交换膜，所述阳极流体隔室流体边界壳可与所述离子交换膜和所述阳极作为单元而从所述框移除；其中，所述保持器、所述阳极和所述膜布置在所述框中，使得来自所述阳极的离子经过所述离子交换膜进入所述工艺电解质中并且主要补给所述工艺电解质中由于离子沉积到所述基底的所述表面上而耗尽的离子。