[发明专利]经表面处理的玻璃基体的制造方法有效
| 申请号： | 201280018685.1 | 申请日： | 2012-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN103492338B | 公开（公告）日： | 2017-04-12 |
| 发明（设计）人： | 冈畑直树;广松邦明;中川浩司 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号： | C03C23/00 | 分类号： | C03C23/00;C03C15/00;C03C17/22 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 | 代理人： | 杨海荣,穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在短时间内有效地制得具有折射率低的性能优异的低折射率层的玻璃基体。在将玻璃基体的玻璃化转变温度设为Tg的情形下，在该玻璃基体的温度为400℃～Tg＋60℃的范围内，通过使含有结构中存在氟原子的分子的气体或液体与运送中的玻璃基体接触来进行所述表面处理而制造玻璃基体。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 处理 玻璃 基体 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种经表面处理的玻璃基体的制造方法，用于对玻璃基体的至少一面进行表面处理，在该表面上形成折射率比玻璃更低的层，所述方法的特征在于：在将该玻璃基体的玻璃化转变温度设为Tg的情形下，在该玻璃基体的温度为400℃～Tg+60℃的范围内，通过使含有氟化氢或氢氟酸的气体或液体与运送中的玻璃基体接触来进行所述表面处理，所述玻璃基体是使用具有熔解玻璃原料的熔解炉、使熔融玻璃浮在熔融金属上而成形玻璃带的浮抛槽、对所述玻璃带进行退火的退火炉的玻璃制造装置而制造的，且通过利用配置在退火区域的喷射器，对在该退火区域运送中的该玻璃带的至少一面喷出含有氟化氢或氢氟酸的气体或液体来进行所述表面处理。
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