[发明专利]光刻设备、用于维护光刻设备的方法以及器件制造方法在审
| 申请号： | 201280019494.7 | 申请日： | 2012-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN103492952A | 公开（公告）日： | 2014-01-01 |
| 发明（设计）人： | A·布里克尔;M·胡克斯;T·凯蒂 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻设备，具有多个独立可控辐射源单元，每个独立可控辐射源单元提供图案化的辐射束的一部分；控制系统，配置成监测每一个独立可控辐射源单元的性能参数；和更换机构，配置成在控制系统确定判断条件已经基于监测的性能参数被满足时以替代单元更换独立可控辐射源单元中的一个。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 用于 维护 方法 以及 器件 制造 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，配置成将图案化的辐射束投影到衬底上，所述光刻设备包括：多个辐射源单元，每个辐射源单元包括配置成提供图案化的辐射束的一部分的辐射源；控制系统，配置成监测辐射源单元的至少一个性能参数；和更换机构，配置成响应于来自控制系统的指令来操作以用替代单元更换辐射源单元中的至少一个；其中控制系统配置成，如果判断条件基于辐射源单元之一的所监测的性能参数被满足，则控制更换机构更换至少一个辐射源单元。
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