[发明专利]NdFeB系烧结磁体有效

专利信息
申请号: 201280021354.3 申请日: 2012-12-27
公开(公告)号: CN103650072A 公开(公告)日: 2014-03-19
发明(设计)人: 佐川真人;沟口彻彦 申请(专利权)人: 因太金属株式会社
主分类号: H01F1/08 分类号: H01F1/08;B22F1/00;B22F3/00;C22C33/02;H01F1/057;H01F41/02
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种NdFeB烧结磁体,其为利用晶界扩散法制造的NdFeB烧结磁体,其具有高矫顽力和矩形比,最大磁能积的降低少。本发明的NdFeB烧结磁体的特征在于,其为通过晶界扩散处理而使附着在基材表面的Dy和/或Tb(以下,将“Dy和/或Tb”记为“RH”)扩散到该基材内部的晶界的NdFeB烧结磁体,所述基材是通过将NdFeB合金的粉末进行取向、烧结而制造的,从附着有RH的面至深度3mm为止的范围内,晶界中的RH浓度Cgx(wt%)与同一深度的、构成基材的粒子即主相粒子中的RH浓度Cx(wt%)之差Cgx-Cx为3wt%以上。
搜索关键词: ndfeb 烧结 磁体
【主权项】:
一种NdFeB系烧结磁体,其特征在于,其为通过晶界扩散处理而使附着在基材表面的Dy和/或Tb扩散至该基材内部的晶界的NdFeB系烧结磁体,所述基材是通过将NdFeB系合金的粉末进行取向、烧结而制造的,以下,将“Dy和/或Tb”记为“RH”,从附着有RH的面至深度3mm为止的范围内,晶界中的RH浓度Cgx(wt%)与同一深度的、构成基材的粒子即主相粒子中的RH浓度Cx(wt%)之差Cgx‑Cx为3wt%以上。
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