[发明专利]NdFeB系烧结磁体有效

专利信息
申请号: 201280021367.0 申请日: 2012-12-27
公开(公告)号: CN103503087A 公开(公告)日: 2014-01-08
发明(设计)人: 佐川真人;沟口彻彦 申请(专利权)人: 因太金属株式会社
主分类号: H01F1/08 分类号: H01F1/08;B22F1/00;B22F3/00;C22C33/02;H01F1/057;H01F41/02
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种NdFeB系烧结磁体,其为利用晶界扩散法制造的NdFeB系烧结磁体,其具有高矫顽力和矩形比,最大磁能积的降低少。本发明的NdFeB系烧结磁体的特征在于,其为通过晶界扩散处理而使附着在基材表面的Dy和/或Tb(以下,将“Dy和/或Tb”记为“RH”)扩散到该基材内部的晶界的NdFeB系烧结磁体,所述基材是通过将NdFeB系合金的粉末进行取向、烧结而制造的,晶界三重点的RH浓度Ct(wt%)与同该晶界三重点相连的二粒子晶界部的RH浓度Cw(wt%)之差Ct-Cw为4wt%以下的晶界三重点的数量为晶界三重点的总数的60%以上。
搜索关键词: ndfeb 烧结 磁体
【主权项】:
一种NdFeB系烧结磁体,其特征在于,其是通过晶界扩散处理而使附着在基材表面的Dy和/或Tb扩散到该基材内部的晶界的NdFeB系烧结磁体,所述基材是通过将NdFeB系合金的粉末进行取向、烧结而制造的,以下,将“Dy和/或Tb”记为“RH”,晶界三重点的RH浓度Ct(wt%)与二粒子晶界部的RH浓度Cw(wt%)之差Ct‑Cw为4wt%以下的晶界三重点的数量为晶界三重点的总数的60%以上。
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