[发明专利]经由廉价软光刻抑制聚合物膜的反润湿无效
| 申请号： | 201280021766.7 | 申请日： | 2012-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN103534645A | 公开（公告）日： | 2014-01-22 |
| 发明（设计）人： | A·卡里姆;D·班德约帕希亚 | 申请（专利权）人： | 阿克伦大学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 李婉婉;张苗 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于在基底上产生图案化聚合物膜的方法，其包括以下步骤：用聚合物膜涂布基底；将图案化掩模放到所述聚合物膜的表面上，所述图案化掩模具有至少一个图案部分，所述图案部分所具有的尺寸小于所述聚合物膜的毛细波长；通过溶剂退火或涉及使所述聚合物膜的温度升高至其玻璃化转变温度以上的基于温度的退火，使所述聚合物膜退火，所述退火的步骤使得所述聚合物膜符合所具有的尺寸小于所述聚合物膜的所述毛细波长的所述至少一个图案部分的尺寸，从而形成图案化聚合物膜；以及将所述图案化掩模从所述图案化聚合物膜移除。 | ||
| 搜索关键词： | 经由 廉价 光刻 抑制 聚合物 润湿 | ||
【主权项】：
一种用于在基底上产生图案化聚合物膜的方法，所述方法包括以下步骤：用聚合物膜涂布基底；将图案化掩模放到所述聚合物膜的表面上，所述图案化掩模具有至少一个图案部分，所述图案部分所具有的尺寸小于所述聚合物膜的毛细波长；通过选自溶剂退火和涉及使所述聚合物膜的温度升高至其玻璃化转变温度以上的基于温度的退火的步骤，使所述聚合物膜退火，所述退火的步骤使得所述聚合物膜符合所具有的尺寸小于所述聚合物膜的所述毛细波长的所述至少一个图案部分的尺寸，从而形成图案化聚合物膜；以及将所述图案化掩模从所述图案化聚合物膜移除。
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