[发明专利]还原炉有效
| 申请号： | 201280023155.6 | 申请日： | 2012-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN103717988A | 公开（公告）日： | 2014-04-09 |
| 发明（设计）人： | R·克尼希;D·施特里德;R·德格尔;A·维耶;W·魏舍德尔 | 申请（专利权）人： | SMS西马格股份公司 |
| 主分类号： | F27B3/08 | 分类号： | F27B3/08;C01B33/035 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 陈浩然;杨国治 |
| 地址： | 德国杜*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种尤其用于生产硅的还原炉，包括炉外壳(3)和带有尤其圆形截面的多个电极(1a，1b)，电极彼此以所限定的布置方式尤其沿着圆弧(2)布置在炉外壳中，其中，电极(1a，1b)中的至少一个构造为由多个单电极(1a，1b)组成的电极束，尤其构造为双电极。 | ||
| 搜索关键词： | 还原 | ||
【主权项】：
一种尤其用于生产硅的还原炉，包括炉外壳(3)和带有尤其圆形截面的多个电极(1a，1b)，电极彼此以所限定的布置方式尤其沿着圆弧(2)布置在所述炉外壳中，其特征在于，所述电极(1a，1b)中的至少一个构造为由多个单电极(1a，1b)组成的电极束，尤其构造为双电极。
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