[发明专利]用于管理光学元件中的热的设备及相关的热管理方法

摘要

本发明涉及一种用于管理光学元件（2）中的热的设备（1），包括：光学元件（2）；参考温度下的材料（5）；和直接位于参考温度下的材料（5）和光学元件（2）之间的中间气体层（4），所述中间气体层（4）在其至少一部分厚度上处于由中间气体层（4）的厚度限定的所谓的瞬时扩散状态，使得中间气体层（4）中的气体分子的平均自由程与所述厚度的比值在0.1和10之间。本发明的特征在于中间气体层的厚度在10μm和5mm之间。本发明还涉及一种在所述设备（1）中实施用于管理光学元件（2）的温度的热管理方法。

主权项

一种用于光学元件(2)的热管理的设备(1)，包括：‑光学元件(2)；‑参考温度下的材料(5)；和‑直接位于所述参考温度下的材料(5)和所述光学元件(2)之间的中间气体层(4)，其特征在于，所述中间气体层(4)在其至少一部分厚度上处于由所述中间气体层(4)的厚度限定的被称为“瞬态”的扩散状态，使得所述中间气体层(4)中的气体分子的平均自由程与所述厚度的比值在0.1和10之间，并且所述中间气体层的厚度在10μm和5mm之间。