[发明专利]半导体开关器件及其制造方法有效
申请号: | 201280024800.6 | 申请日: | 2012-05-10 |
公开(公告)号: | CN103563083A | 公开(公告)日: | 2014-02-05 |
发明(设计)人: | 杨智超;S.A.科恩;李保振 | 申请(专利权)人: | 国际商业机器公司 |
主分类号: | H01L29/00 | 分类号: | H01L29/00;H01L21/8238;H01L21/205 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 焦玉恒 |
地址: | 美国纽*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种开关器件(140或240),包括:第一电介质层(102或207),具有第一顶表面(108或218);两个导电特征(104、106或214、216),埋设在第一电介质层(102或207)中,每个导电特征(104、106或214、216)具有第二顶表面(110、112或220、222),其基本上与第一电介质层(102或207)的第一顶表面(108或218)共面;以及低扩散迁移率金属的一组离散岛(114a-c或204a-c),位于两个导电特征(104、106或214、216)之间。低扩散迁移率金属的离散岛(114a-c或204a-c)可位于第一顶表面(108)上或埋设在第一电介质层(207)中。当规定的电压施加到两个导电特征(104、106或214、216)时,开关器件(140或240)的两个导电特征(104、106或214、216)间的导电率增加。还提供一种形成该开关器件(140或240)的方法。 | ||
搜索关键词: | 半导体 开关 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种开关器件(140),包括:第一电介质层(102),具有第一顶表面(108);两个导电特征(104、106),埋设在该第一电介质层(102)中,每个导电特征(104、106)具有第二顶表面(110、112),该第二顶表面(110、112)基本上与该第一电介质层(102)的该第一顶表面(108)共面;以及低扩散迁移率金属的一组离散岛(114a‑c),位于该第一电介质层(102)的该第一顶表面(108)上并位于该两个导电特征(104、106)之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国际商业机器公司,未经国际商业机器公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201280024800.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种穿销压轨式矿山轨枕
- 下一篇:用于对纤维幅材进行表面施胶的装置
- 同类专利
- 专利分类