[发明专利]半导体开关器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201280024800.6 申请日: 2012-05-10
公开(公告)号: CN103563083A 公开(公告)日: 2014-02-05
发明(设计)人: 杨智超;S.A.科恩;李保振 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: H01L29/00 分类号: H01L29/00;H01L21/8238;H01L21/205
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 焦玉恒
地址: 美国纽*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种开关器件(140或240),包括:第一电介质层(102或207),具有第一顶表面(108或218);两个导电特征(104、106或214、216),埋设在第一电介质层(102或207)中,每个导电特征(104、106或214、216)具有第二顶表面(110、112或220、222),其基本上与第一电介质层(102或207)的第一顶表面(108或218)共面;以及低扩散迁移率金属的一组离散岛(114a-c或204a-c),位于两个导电特征(104、106或214、216)之间。低扩散迁移率金属的离散岛(114a-c或204a-c)可位于第一顶表面(108)上或埋设在第一电介质层(207)中。当规定的电压施加到两个导电特征(104、106或214、216)时,开关器件(140或240)的两个导电特征(104、106或214、216)间的导电率增加。还提供一种形成该开关器件(140或240)的方法。
搜索关键词: 半导体 开关 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种开关器件(140),包括:第一电介质层(102),具有第一顶表面(108);两个导电特征(104、106),埋设在该第一电介质层(102)中,每个导电特征(104、106)具有第二顶表面(110、112),该第二顶表面(110、112)基本上与该第一电介质层(102)的该第一顶表面(108)共面;以及低扩散迁移率金属的一组离散岛(114a‑c),位于该第一电介质层(102)的该第一顶表面(108)上并位于该两个导电特征(104、106)之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国际商业机器公司,未经国际商业机器公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201280024800.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top