[发明专利]使用既含烃又含氢的气流还原金属氧化物的方法有效
| 申请号： | 201280026155.1 | 申请日： | 2012-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN103562412A | 公开（公告）日： | 2014-02-05 |
| 发明（设计）人： | R.米尔纳;C.贝姆 | 申请（专利权）人： | 西门子VAI金属科技有限责任公司 |
| 主分类号： | C21B5/06 | 分类号： | C21B5/06;C21B13/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 石克虎;林森 |
| 地址： | 奥地*** | 国省代码： | 奥地利;AT |
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| 摘要： | 本发明涉及使用既含烃又含氢的气流还原金属氧化物的方法。其中将既含烃又含氢的气流分离成富氢级分和富烃级分。随后使至少部分量的富烃级分经受选自下列的至少一个操作-用工业纯的氧氧化，-借助于CO2和H2O重整。然后将其至少作为还原气的组分送入含金属氧化物的还原机组中。在此通过选自上述的至少一个操作如此调节烃-含量，使得在进入还原机组时的所述还原气中的烃-含量在12体积%以下。本发明还涉及用于实施这种方法的装置。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 既含烃 气流 还原 金属 氧化物 方法 | ||
【主权项】：
使用既含烃又含氢的气流还原金属氧化物的方法，其特征在于，将所述既含烃又含氢的气流分离成富氢级分和富烃级分，并随后使至少部分量的富烃级分经受选自下列的至少一个操作‑ 用工业纯的氧氧化‑ 借助于CO2和H2O重整，然后将其至少作为还原气的组分送入含金属氧化物的还原机组中，其中通过选自上述的至少一个操作如此调节烃‑含量，使得在进入还原机组时的还原气中的烃‑含量在12体积%以下，优选在10体积%以下，特别优选在8体积%以下。
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