[发明专利]X射线成像系统与方法有效

专利信息
申请号: 201280026665.9 申请日: 2012-03-30
公开(公告)号: CN103635830B 公开(公告)日: 2017-10-20
发明(设计)人: P·A·赫尔姆;S·石 申请(专利权)人: 美敦力导航股份有限公司
主分类号: G01T1/20 分类号: G01T1/20;G01T1/202;G01T1/161
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 张欣
地址: 美国科*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种X射线成像系统可包括用于投射X射线辐射光束的X射线源(36)和被放置为在一位置处接收X射线辐射光束的X射线检测器(100)。该X射线检测器可包括(i)具有第一侧(112)和与该第一侧相反的第二侧(114)的单片衬底,(ii)部署在该第一侧上的闪光层(120),且该闪光层包括第一区域(122)和第二区域(124),该第一区域具有第一X射线敏感度且该第二区域具有与该第一X射线敏感度不同的第二X射线敏感度,和(iii)部署在该第二侧上的光电传感器阵列(130)。该X射线源和X射线检测器可被配置为调整该X射线检测器接收该X射线辐射光束的位置,以使该位置主要位于该第一区域或该第二区域内。
搜索关键词: 射线 成像 系统 方法
【主权项】:
一种X射线成像系统,包括:转子,配置为用于围绕对象旋转;投射X射线辐射波束的X射线源,其中所述X射线辐射波束是锥体波束,并且所述X射线源安装在所述转子上;和安装在所述转子上且被放置为在一位置处接收所述X射线辐射波束的X射线检测器,所述X射线检测器包括:(i)单个单片衬底,具有第一侧以及与所述第一侧相反的第二侧;(ii)单个闪光层,部署在所述第一侧上且包括第一区域和第二区域,所述第一区域具有第一X射线敏感度且所述第二区域具有不同于所述第一X射线敏感度的第二X射线敏感度,以及iii)部署在所述第二侧上的光电传感器阵列,其中所述X射线源和/或所述X射线检测器的位置可相对于彼此进行调节,以便调整所述X射线检测器接收所述X射线辐射波束的位置从而使所述位置主要位于所述第一区域或所述第二区域内,所述X射线源被配置为相对于所述转子和所述X射线检测器在第一位置和第二位置之间枢转,从而调节所述X射线检测器接收所述X射线辐射波束的所述位置,当所述X射线源被枢转到第一位置时,所述位置的大部分在所述第一区域内,并且当所述X射线源被枢转到第二位置时,所述位置的大部分在所述第二区域内。
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