[发明专利]盖及盖用轧制件的制造方法无效

专利信息
申请号: 201280027191.X 申请日: 2012-06-07
公开(公告)号: CN103596705A 公开(公告)日: 2014-02-19
发明(设计)人: 中村刚;舌间淳 申请(专利权)人: 日本发条株式会社
主分类号: B21B1/22 分类号: B21B1/22;B21B27/00;G11B33/14
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 雒运朴
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种能够减少并简化作业工序的盖及盖用轧制件的制造方法。设于硬盘装置(1)且至少覆盖硬盘装置(1)的驱动机构的上表面,盖(2b)通过使用在轧制处理的同时实施表面加工,使外侧与内侧的算术平均粗糙度不同,且内侧的算术平均粗糙度比外侧的算术平均粗糙度小的轧制件而成形,从而能够减少并简化作业工序。
搜索关键词: 轧制 制造 方法
【主权项】:
一种盖,其设于精密设备且至少覆盖该精密设备的驱动机构,所述盖的特征在于,使用在外侧的表面与内侧的表面算术平均粗糙度不同的轧制件而成形,所述内侧的表面的算术平均粗糙度比所述外侧的表面的算术平均粗糙度小。
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