[发明专利]底层抗反射涂料组合物及其方法有效
| 申请号： | 201280027792.0 | 申请日： | 2012-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN103597043B | 公开（公告）日： | 2017-04-05 |
| 发明（设计）人： | 工藤隆范;A·D·迪奥塞斯;E·W·恩格;S·查克拉帕尼;M·帕德马纳班 | 申请（专利权）人： | 默克专利有限公司 |
| 主分类号： | C09D5/00 | 分类号： | C09D5/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人： | 孙悦 |
| 地址： | 德国达*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及抗反射涂料组合物，包含交联剂、含有至少一个发色团基团和至少一个羟基和/或羧基基团的聚合物、和添加剂，进一步地其中该添加剂具有结构(1)并包含至少一个亚芳基‑羟基部分，其中Y选自羧酸根阴离子或磺酸根阴离子，R1、R2和R3独立地选自未取代的C1‑C8烷基、取代的C1‑C8烷基、芳基和亚芳基‑羟基；X1、X2和X3独立地选自直接价键和C1‑C8亚烷基，且n=1、2或3。本发明进一步涉及使用该组合物的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 底层 反射 涂料 组合 及其 方法 | ||
【主权项】：
抗反射涂料组合物，包含交联剂、含有至少一个发色团基团和至少一个羟基和/或羧基基团的聚合物、和添加剂，进一步地其中该添加剂具有结构1并包含至少一个亚芳基‑羟基部分，其中Y选自羧酸根阴离子或磺酸根阴离子，R1、R2和R3独立地选自未取代的C1‑C8烷基、取代的C1‑C8烷基、芳基和亚芳基‑羟基，其中R1、R2和R3中至少之一是亚芳基‑羟基部分；X1、X2和X3独立地选自直接价键和C1‑C8亚烷基，且n＝1、2或3。
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