[发明专利]用于在预选位点修饰植物基因组的方法和手段有效
| 申请号： | 201280028034.0 | 申请日： | 2012-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN103597082B | 公开（公告）日： | 2017-09-15 |
| 发明（设计）人： | K·达伦 | 申请（专利权）人： | 拜尔作物科学公司 |
| 主分类号： | C12N15/82 | 分类号： | C12N15/82;C12N5/04;C12N5/10;C12N9/16 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人： | 张莉,黄革生 |
| 地址： | 比利时*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了以靶向方式修饰棉花植物基因组的方法和手段，使用双链DNA断裂诱导酶和胚性愈伤组织。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 预选 修饰 植物 基因组 方法 手段 | ||
【主权项】：
一种用于在预定义位点修饰棉花植物细胞基因组的方法，该方法包括以下步骤a.在所述预定义位点或其附近诱导双链DNA断裂，所述双链断裂是通过向所述细胞引入罕见分裂内切核酸酶诱导的，该罕见分裂内切核酸酶在所述预定义位点或其附近识别一个识别序列；b.选择一种植物细胞，其中所述双链DNA断裂已经被修复，导致了在基因组中在所述预选位点的修饰，其中所述修饰选自i.至少一个核苷酸的取代；ii.至少一个核苷酸的缺失；iii.至少一个核苷酸的插入；或者iv.i.‑iii.的任何组合；其特征在于所述细胞包括在脆弱胚性愈伤组织内，其中在包括活性炭的培养基上诱导所述脆弱胚性愈伤组织并维持在暗光条件下，其中所述暗光条件的光强度是1至7μmol m‑2sec‑1，光周期是16H光/8H黑暗。
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