[发明专利]光化射线或辐射敏感树脂组合物,由其制备的光化射线或辐射敏感膜和形成图案的方法有效

专利信息
申请号: 201280028773.X 申请日: 2012-06-14
公开(公告)号: CN103608728B 公开(公告)日: 2017-07-25
发明(设计)人: 稻崎毅;川端健志;土村智孝 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/039 分类号: G03F7/039;C08F8/00;C08F212/14;C08F220/20;H01L21/027
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 牛海军
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 根据一个实施方案,一种光化射线或辐射敏感树脂组合物包含化合物(P),所述化合物(P)含有至少一个酚羟基以及至少一个具有其氢原子被下面通式(1)的基团中的任一个取代的酚羟基的基团。
搜索关键词: 光化 射线 辐射 敏感 树脂 组合 制备 形成 图案 方法
【主权项】:
一种光化射线或辐射敏感树脂组合物,所述组合物包含化合物(P)和碱性化合物,所述化合物(P)含有至少一个酚羟基以及至少一个具有其氢原子被下面通式(1)的基团中的任一个取代的酚羟基的基团,其中R11、R12和R13的每一个独立地表示具有碳原子作为与‑(CR11R12R13)的C结合的原子的有机基团,条件是由R11、R12和R13表示的有机基团含有总计4个以上碳原子并且R11、R12和R13中的至少两个可以彼此结合从而形成环,M11表示单键或二价连接基团,并且Q11表示烷基、环烷基或芳基。
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