[发明专利]模内成形用转印膜及其制造方法在审
申请号: | 201280030246.2 | 申请日: | 2012-06-18 |
公开(公告)号: | CN103608160A | 公开(公告)日: | 2014-02-26 |
发明(设计)人: | 伊藤贤哉;大熊康之;田仲拓郎;高桥夕佳;黒松亜纪;山广干夫 | 申请(专利权)人: | 捷恩智株式会社 |
主分类号: | B29C45/16 | 分类号: | B29C45/16;B29C33/14;B32B27/16;B44C1/17 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 臧建明 |
地址: | 日本东京千代田区大手町二丁*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种耐溶剂性、耐热性、耐久性、抗黏连性、成形性优异,且可抑制浇口流动的产生的模内成形用转印膜及其制造方法。该膜包括:转印层(11),其被转印至模内成形体上,且于转印后藉由照射活性能量线而硬化:以及膜状的基材(L0)。转印层(11)具有层合于基材(L0)上,且于模内成形后配置在成形体的最表面的IMD层(L2);IMD层(L2)包含混合组分,上述混合组分含有分别至少1种的活性能量线硬化性树脂与热硬化性树脂。 | ||
搜索关键词: | 成形 用转印膜 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种模内成形用转印膜,其包括:转印层,其被转印至模内成形体上,且于转印后藉由照射活性能量线而硬化;以及膜状的基材;上述转印层具有层合于上述基材上,且于模内成形后配置在成形体的最表面的IMD层;上述IMD层包含混合组分,上述混合组分含有分别至少1种的活性能量线硬化性树脂与热硬化性树脂。
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