[发明专利]在涂覆金属带的工艺中产生气体射流的设备有效
申请号: | 201280030280.X | 申请日: | 2012-06-21 |
公开(公告)号: | CN103717777A | 公开(公告)日: | 2014-04-09 |
发明(设计)人: | 法比奥·范切特;亚利山德罗·科纳;詹卢卡·卡波拉尔 | 申请(专利权)人: | 丹尼尔和科菲森梅克尼齐有限公司 |
主分类号: | C23C2/20 | 分类号: | C23C2/20 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 惠磊;郑霞 |
地址: | 意大利*** | 国省代码: | 意大利;IT |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 设备具有气流调平管(3),其界定连续弯曲的展开面(Z),包括安装有喷嘴(10)的收集器(4)、输送歧管(1),以便引导加压气体通过孔(12)进入前置室(2)内,第一带孔的隔板(5)和第二带孔的隔板(6)在调平管(3)内,被布置成垂直于管(3)的弯曲的展开面(Z)。 | ||
搜索关键词: | 金属 工艺 产生 气体 射流 设备 | ||
【主权项】:
一种用于产生平的、层流的气体射流,尤其适用于金属带的热涂覆工艺的设备,该设备包括:‑纵向的输送歧管(1),其具有外周壁,所述外周壁设置有第一孔(12),‑调平前置室(2),其通过所述第一孔(12)与所述纵向的输送歧管(1)相通,‑调平管(3),所述调平管(3)在其第一端与所述调平前置室(2)相通,‑喷嘴(10),其适用于产生平的气体射流,‑所述调平管(3)在其第二端与所述喷嘴(10)相通,所述第二端与所述第一端相对并且所述第二端具有比所述第一端小的截面,以便逐渐变细并且产生从所述调平前置室(2)到所述喷嘴(10)的气流路径,所述路径界定弯曲的中间展开面(Z),‑至少两个带孔的隔板(5,6)布置在所述调平管(3)内并且垂直于所述弯曲的中间展开面(Z),从而界定所述调平管(3)的彼此连接的至少两个连续的、相邻的部分(3a,3b),其中所述第一孔(12)仅被设置在所述输送歧管(1)的所述外周壁的第一纵向段(11)内并且所述调平前置室(2)至少在外部围绕所述第一纵向段(11)延伸,其中所述调平管(3)的第一部分(3a)在外部围绕所述输送歧管(1)的所述外周壁的邻近所述第一纵向段(11)的第二纵向段延伸,以及其中所述调平管(3)的第二部分(3b)被布置在相对于所述输送歧管(1)的基本上切线方向上,在所述第二纵向段的下游,从而所述弯曲的中间展开面(Z)由理想的连续弯曲的面且没有任何角点来表示,以便优化气流从所述调平管(3)的第一端处的湍流到所述调平管(3)的第二端处的层流的转变。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于丹尼尔和科菲森梅克尼齐有限公司,未经丹尼尔和科菲森梅克尼齐有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201280030280.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:四甲基氢氧化铵提浓装置
- 下一篇:一种改进的中空玻璃
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C2-00 用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺;其所用的设备
C23C2-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域上镀覆
C23C2-04 .以覆层材料为特征的
C23C2-14 .过量熔融覆层的除去;覆层厚度的控制或调节
C23C2-26 .后处理
C23C2-30 .熔剂或融态槽液上的覆盖物
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C2-00 用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺;其所用的设备
C23C2-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域上镀覆
C23C2-04 .以覆层材料为特征的
C23C2-14 .过量熔融覆层的除去;覆层厚度的控制或调节
C23C2-26 .后处理
C23C2-30 .熔剂或融态槽液上的覆盖物