[发明专利]烧穿制剂无效
| 申请号： | 201280031223.3 | 申请日： | 2012-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN103797088A | 公开（公告）日： | 2014-05-14 |
| 发明（设计）人： | O·阿拜德;李运钧;J·P·诺瓦克;S·金;P·弗格森 | 申请（专利权）人： | 应用纳米技术控股股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/00 | 分类号： | C09K13/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张静 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 对于太阳能电池制造，向可印刷介质添加前体以辅助蚀刻穿过氮化硅或氧化硅层，从而得到与在氮化物或氧化物层之下的基材的接触。蚀刻机制可能是通过原位形成的熔融的陶瓷、基于氟化物的蚀刻和两者的结合。 | ||
| 搜索关键词： | 制剂 | ||
【主权项】：
一种包括金属颗粒、溶剂、分散剂和低熔点陶瓷前体的油墨。
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