[发明专利]使用组合的多个能量源的材料表面处理方法和装置有效
申请号: | 201280032253.6 | 申请日: | 2012-06-28 |
公开(公告)号: | CN103635624A | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 普拉文·米斯特里 | 申请(专利权)人: | 米提克斯有限公司 |
主分类号: | D06M10/02 | 分类号: | D06M10/02;D06M10/00 |
代理公司: | 北京博华智恒知识产权代理事务所(普通合伙) 11431 | 代理人: | 樊卫民;徐技伟 |
地址: | 英国哈德*** | 国省代码: | 英国;GB |
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摘要: | 过至少两个能量源在处理区域(124)中实现了材料处理,所述能量源例如是:(i)大气压(AP)等离子体和(ii)紫外线(UV)激光,该紫外线激光被引导进入等离子体并可选地引导至被处理的材料上。可以在之前分配前体材料(323),并且可以在处理之后分配精加工材料(327)。用于产生等离子体的电极(e1、e2)可以包括两个间隔开的辊(212/214;412/414;436/438)。与电极辊(412/414)相邻的轧辊(416/418;436/438)限定半气密的腔(440),并可以具有金属外层(437/439)。 | ||
搜索关键词: | 使用 组合 能量 材料 表面 处理 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种用于处理基材(102、402、404)的方法,包括:在处理区域(124)中生成等离子体,所述处理区域包括两个间隔开的电极(e1/e2;212/214;412/414;452/454);将至少一个不同于第一能量源的第二能量源引导进入等离子体以与等离子体相互作用获得混合等离子体;以及使所述混合等离子体与在处理区域(124)中的基材相互作用。
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