[发明专利]铜或以铜为主要成分的化合物的蚀刻液有效
| 申请号： | 201280032769.0 | 申请日： | 2012-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN103649373B | 公开（公告）日： | 2017-04-12 |
| 发明（设计）人： | 玉井聪;夕部邦夫;冈部哲 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/14;H05K3/06 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人： | 刘新宇,李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及铜或以铜为主要成分的化合物的蚀刻液、以及使用该蚀刻液的蚀刻方法，所述蚀刻液的特征在于含有(A)马来酸根离子供给源、和(B)铜离子供给源。 | ||
| 搜索关键词： | 主要成分 化合物 蚀刻 | ||
【主权项】：
一种铜或以铜为主要成分的化合物的蚀刻液，其特征在于，含有(A)马来酸根离子供给源、(B)铜离子供给源、和(C)分子内具有两个以上羧基并且具有一个以上羟基的有机酸根离子供给源，(A)马来酸根离子供给源相对于(B)铜离子供给源的摩尔比为0.1～20，(C)分子内具有两个以上羧基并且具有一个以上羟基的有机酸根离子供给源相对于(B)铜离子供给源的摩尔比为0.1～2.0。
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