[发明专利]消除表面缺陷的光学元件的制造方法

摘要

本发明涉及一种包括由可熔材料制成的基材的光学元件的制造方法，所述方法包括如下步骤a)和b)，或步骤a)、b)和c)，或步骤a)、b)、c)和d)：a)粗加工；b)研磨；c)抛光；和d)精加工。根据本发明，所述方法包括在步骤b)、c)和/或d)任一步骤之后的如下步骤：e)检查该光学元件的光学表面；f)检测并定位至少一个要消除的表面缺陷；g)对于每个要消除的表面缺陷，施加激光束至包括要消除的表面缺陷的区域，从而产生可熔材料局部回流，由此在要消除的表面缺陷的位置通过激光形成材料重熔区域；h)抛光包括至少一个由激光形成的材料重熔区域的所述光学表面，从而产生无表面缺陷的抛光的光学表面，并以步骤c)和d)继续该制造方法。

主权项

一种光学元件(100)的制造方法，该光学元件包括由可熔材料制成的基材，所述方法包括如下步骤a)和b)，或步骤a)、b)和c)，或步骤a)、b)、c)和d)：a.粗加工(10)所述光学元件(100)以在所述基材上形成至少一个光学表面(110)；b.平整(20)所述光学元件(100)的光学表面(110)从而得到平整的光学表面；c.抛光(40)所述平整的光学表面从而得到抛光的光学表面；d.精加工(60)所述抛光的光学表面从而得到精加工的光学表面；其特征在于，所述方法包括在步骤b)、c)和/或d)中任一步骤之后的如下步骤：e.检查(30′，50′，70′)所述光学元件的平整的、抛光的或精加工的光学表面，以在所述光学元件的平整的、抛光的或精加工的光学表面上检测并定位至少一个要消除的表面缺陷(120)；f.针对在步骤e)定位的每个要消除的表面缺陷(120)，施加激光束(35，55，75)到包含所述要消除的表面缺陷的区域上，所述激光束具有适于被所述材料吸收的激光发射波长，从而产生该可熔材料的局部重熔，该激光束的能量密度和该激光束的施加的持续时间是所述要消除的表面缺陷(120)的横向尺寸的函数，从而取代要消除的表面缺陷形成激光重熔材料的区域(310)；g.当步骤f)在步骤c)结束之前已被执行时，以步骤c)继续该光学元件的制造方法；或者，当步骤f)在步骤c)结束之后已被执行时，以步骤d)继续该光学元件的制造方法。