[发明专利]微细图案形成用组合物以及使用其的微细化图案形成方法有效
申请号: | 201280034718.1 | 申请日: | 2012-07-13 |
公开(公告)号: | CN103649838A | 公开(公告)日: | 2014-03-19 |
发明(设计)人: | 冈村聪也;G·帕夫洛夫斯基;石井雅弘 | 申请(专利权)人: | AZ电子材料IP(日本)株式会社 |
主分类号: | G03F7/40 | 分类号: | G03F7/40;C08F226/02;H01L21/027 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所 11216 | 代理人: | 刘激扬 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供可以形成具有高蚀刻耐受性的抗蚀图案的微细图案形成用组合物、以及使用其的抗蚀图案的形成方法。一种微细图案形成用组合物,其包含纯水和在侧链具有含芳基的取代基的水溶性树脂。该组合物包含结合于水溶性树脂的酸基或者包含游离于组合物中的酸。 | ||
搜索关键词: | 微细 图案 形成 组合 以及 使用 方法 | ||
【主权项】:
1.一种微细图案形成用组合物,其特征在于,其包含纯水和由下述通式(1)表示的水溶性树脂:-Xp-Yq-Zr- (1)式中,[化学式1]
p、q以及r分别是重复单元X、Y以及Z的聚合比,并且0.60≤p+r≤0.95、且0.05≤q≤0.40,各重复单元可以构成嵌段,也可无规结合,a为0或1的整数,L是从由-N=CH-、-NH-CHR0-、-NH-CH2-CHR0-以及-NH-CHR0-CH2-构成的群组中选出的二价连结基,此处R0从由-H、-CH3、-COOH、-CH2COOH、-CH(CH3)2以及-COOC2H5构成的群组中选出,Ar是由下述通式表示的基团:[化学式2]
此处,b为0以上5以下的整数,c为0以上5-b以下的整数,R1是包含从由碳、氮、氧以及氟构成的群组中选出的元素的有机基团,在b为2以上之时两个R1也可结合而形成环状结构,R2是从由-COOH、-CH2COOH、-CH(CH3)COOH、-OCH2COOH、-SO3H以及-OH构成的群组中选出的酸基,重复单元Y包含至少一个酸基,重复单元X以及Y也可以分别为结构不同的重复单元的组合。
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