[发明专利]像素化闪烁晶体薄膜及其制备和应用有效
| 申请号： | 201280035759.2 | 申请日： | 2012-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN103917895A | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | 李秋莹;于波;于洪波 | 申请（专利权）人： | 吉林省锐意美科技有限公司 |
| 主分类号： | G01T1/20 | 分类号： | G01T1/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 李勇;陈长会 |
| 地址： | 130022 吉林省长春市*** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种像素化闪烁晶体薄膜及其制备方法和应用，包括：表面像素化基板(1)，所述表面像素化基板(1)的表面由彼此分离的像素单元区(2)和位于像素单元间的隔离带区(3)构成；和闪烁晶体(5，6)，其位于表面像素化基板上；在所述像素单元区(2)上的闪烁晶体具有第一形貌，所述隔离带区(3)内存在至少一条隔离带(4)，在所述隔离带(4)上的闪烁晶体(5，6)具有和所述第一形貌不同的形貌。利用表面诱导自隔离技术制备的像素化闪烁晶体薄膜，可以减少相邻像素间可见光的干扰，有效提高薄膜成像时的空间分辨率。该薄膜的制备工艺简单，易于和现有光电检测系统集成，实现数字化检测。 | ||
| 搜索关键词： | 像素 闪烁 晶体 薄膜 及其 制备 应用 | ||
【主权项】：
PCT国内申请，权利要求书已公开。
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